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坚持开发并扩展自己的光刻机业务。尼康尼康的光刻机产品阵容比较全面,包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻
浪客剑 半导体行业媒体芯智讯主编 当地时间3月8日,荷兰光刻机大厂ASML通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》称,荷兰政府于当天发布了有关即将对半导体设备出口进行限制的更多信息。这些新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积和部分浸没式光刻设备。 ASML强调,荷兰政府新出台的额外的出口管制并不涉及
lang ke jian ban dao ti xing ye mei ti xin zhi xun zhu bian dang di shi jian 3 yue 8 ri , he lan guang ke ji da chang A S M L tong guo guan wang fa bu le 《 guan yu e wai chu kou guan zhi de sheng ming 》 cheng , he lan zheng fu yu dang tian fa bu le you guan ji jiang dui ban dao ti she bei chu kou jin xing xian zhi de geng duo xin xi 。 zhe xie xin de chu kou guan zhi ce zhong yu xian jin de xin pian zhi zao ji shu , bao kuo zui xian jin de chen ji he bu fen jin mei shi guang ke she bei 。 A S M L qiang tiao , he lan zheng fu xin chu tai de e wai de chu kou guan zhi bing bu she ji . . .
文章浏览阅读1k次。半导体沉浸式光刻_浸没式光刻机原理 半导体浸没式光刻 最新推荐文章于 2023-02-15 15:09:08发布 桃根仙最新推荐文章于 2023-02-15 15:09:08发布 阅
浸没式光刻机NSR-S636E,该产品将提升生产效率和套刻精度。这款曝光机采用了增强型iAS设计,具有高精度测量、圆翘曲和畸变校正功能,并且重叠
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据芯智讯了解,ASML的浸没式DUV光刻机虽然目前已经是非常成熟的设备,其中关键的DUV光源除了ASML美国子公司Cymer之外,日本的GIGAPHOTO
12月9日消息,根据日本光刻机大厂尼康(Nikon)官方消息,其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称,作为
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12月9日消息,根据日本光刻机大厂尼康(Nikon)官方消息,其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S6_新浪网
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近日,尼康宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”,生产效率、套刻精度都会有进一步提升。据悉,尼康这款曝光机采
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